Već smo nebrojeno puta pisali o izazovima s kojima se kineska industrija čipova susreće zbog američkih sankcija. Paralelno s time ide i prča o restrikcijama s kojima se u proteklih nekoliko godina susreće Huawei. Međutim, ako je suditi po najnovijim informacijama koje prenosi tajvanski Digitimes, Huawei i SMIC (najveći kineski foundry za proizvodnju čipova) su uspjeli prevladati jednu od najvećih prepreka.
Naime, Huawei je upravo objavio patent u kojem specificira način proizvodnje 3-nanometarskih čipova uz pomoć DUV litografskih strojeva. Prethodno je već bilo objavljeno da je pomoću ovakvog stroja proizveden 5nm procesor, a sada cijela priča dobiva nastavak.
DUV (Deep Ultraviolet) su strojevi starije generacije i služe su za proizvodnju čipova s većim nodovima (7nm i iznad). Kako je tehnologija vremenom napredovala, pojavila se potreba za novim strojevima, što je rezultiralo lansiranjem EUV (Extreme Ultraviolet) jedinica, prvenstveno od strane nizozemskog ASML-a, (još uvijek) najvrjednije europske tehnološke kompanije po tržišnoj kapitalizaciji. Takvi strojevi se trenutno koriste za proizvodnju 5nm i 3nm čipova, a uskoro i 2nm.
Problem za kinesku industriju je nastupio kad je nizozemska vlada pod pritiskom SAD-a odustala od isporuke EUV strojeva tamošnjim kompanijama, što je rezultiralo njihovim objektivnim zaostajanjem.
Međutim, prema najnovijem patentu koji je objavio Huawei, u suradnji sa SMIC-om, za proizvodnju 3-nanometarskih čipova će biti dovoljni i stariji DUV strojevi, ali uz uvjet četverostrukog „patteringa“ odnosno graviranja svjetlosnih snopova u silikonski wafer. Valja napomenuti da je Intel 2019. godine pokušao slično, ali bez uspjeha.
Naravno, ovaj postupak je višestruko skuplji od obrade poluvodiča putem EUV strojeva, no s obzirom da ni Huawei ni SMIC u ovom trenutku nemaju izbora, uložit će dodatna sredstva kako bi ostali konkurentni. Na koncu ovo možemo promatrati i kao prijelazno razdoblje dok tamošnja industrija litografskih strojeva, primjerice SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) ne dostigne razinu na kojoj su trenutno ASML, Canon i Nikon. Prema nekim analitičarima, to bi se moglo dogoditi kroz sljedeće tri ili četiri godine.
