Trgovinski rat SAD-a i Kine, koji je započeo još u proteklom desetljeću, u posljednje dvije godine je kulminirao dodatnim zaoštravanjem na polju proizvodnje poluvodiča, tj. ključne komponente za razvoj naprednih čipova.
Američka administracija je prvo vlastitim kompanijama zabranila izvoz naprednih čipova u Kinu, da bi kasnije putem političkih pritisaka postigla zabranu prodaje litografskih strojeva koje proizvodi nizozemski ASML.
Ova tvrtka, koja je ujedno i najvrjednija EU kompanija po tržišnoj kapitalizaciji, jedina u svijetu proizvodi EUV (Extreme UltraViolet) strojeve, neophodne za proizvodnju 5-nanometarskih i naprednijih procesora.
S obzirom da se našla u nezavidnoj situaciji, Kina je očito odlučila krenuti u samostalni razvoj litografske tehnologije. Prema pisanju hongkonškog medija South China Morning post, upravo su postignuti prvi rezultati.
Prema službenoj web stranici Harbin Institute of Technology, projekt EUV izvora svjetlosti s plazmom pražnjenja može se pohvaliti visokom učinkovitošću pretvorbe energije, niskom cijenom, kompaktnom veličinom i relativno malim tehničkim poteškoćama.
Kineski EUV koristi metodu LDP (plazma induciranog pražnjenja laserom) tako što isparava malu količinu kositra u oblak između dvije elektrode. One pak koriste visoki napon za pretvaranje oblaka kositra u plazmu. Elektroni i visokovalentni ioni kositra sudaraju se i zrače nekoliko puta, tvoreći EUV svjetlost.
Usporedbe radi, ASML koristi LPP (plazma proizvedena laserom). Ovaj proces zahtijeva visokoenergetsku lasersku svjetlost i složenu kontrolu FPGA čipa. U usporedbi s ASML-om, trenutni kineski pristup je jednostavniji i isplativiji. Kako navodi isti izvor, sposoban je pretvoriti električnu energiju u plazmu izravno, uz bolju energetsku učinkovitost.
Ipak, određeni izazovi i dalje postoje. Na primjer, optimizacija parametara i vremena impulsa pražnjenja. Druga poteškoća mogla bi biti ograničenja izlazne snage.
U svakom slučaju, nakon dugotrajnih američkih sankcija, čini se da Kini zapadna tehnologija uskoro više neće biti potrebna.
