I dok Trumpove carine upravo šamaraju američko gospodarstvo i doslovno ruše tržište kapitala, polako počinju stizati prvi rezultati prvog trgovinskog rata, na kojeg smo već pomalo zaboravili. Naime, Trump je još u prvom mandatu počeo uvoditi sankcije kineskim tvrtkama, među kojima je izabrana izvoza napredne tehnologije u Kinu.
Sada se ispostavlja da je takav potez bio nepromišljen jer je Kini omogućio da još brže postane samodostatna na području proizvodnje čipova.
U potezu koji bi mogao preoblikovati globalnu industriju poluvodiča, kineski SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) navodno je uspio proizvesti 5nm čipove bez korištenja ekstremne ultraljubičaste (EUV) litografije.
Umjesto EUV tehnologije, čiju proizvodnju drži isključivo nizozemski ASML i koja je podložna strogim izvoznim ograničenjima, SMIC je iskoristio starije DUV (duboko ultraljubičaste) strojeve u kombinaciji sa složenom tehnikom poznatom kao Samoporavnato četverostruko uzorkovanje (SAQP). Ova metoda omogućuje iznimno precizno oblikovanje struktura, slično onome što omogućuje EUV.
Ako se pitate kakve veze Trump ima s nizozemskim ASML-om, trebate znati da je Bidenova administracija 2021. godine samo nastavila njegovu misiju i političkim pritiscima na nizozemsku vladu isposlovala zabranu prodaje EUV strojeva Kini.
Najnoviju vijest je podijelio analitičar poluvodiča William Huo na platformi X, ističući kako je riječ i o tehnološkom i geopolitičkom iskoraku. Dugo se smatralo da je napredak ispod 7nm nezamisliv bez pristupa EUV sustavima. No, SMIC je pokazao da je to ipak moguće, koristeći višestruke DUV litografske korake kako bi postigao potrebnu preciznost.
Iako je ova metoda sporija, skuplja i sklona pogreškama u usporedbi s EUV-om, rezultat je funkcionalan: čip klase 5nm.
S obzirom tempo razvoja događaja, mnogi analitičari sada vjeruju da će kineska industrija puno brže napredovati i najveće rivale u proizvodnji poluvodiča, kao što su tajvanski TSMC i korejski Samsung, sustići znatno ranije nego što se isprva pretpostavljalo.
